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Title: Desenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVD
Authors: Lidizio, Leandro Reis
metadata.dc.contributor.advisor: Franceschini Filho, Dante Ferreira
metadata.dc.contributor.members: Franceschini Filho, Dante Ferreira
Perez, Geronimo
Xing, Yutao
Issue Date: 2017
Publisher: Universidade Federal Fluminense
Citation: Lidizio, Leandro Reis. Desenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVD. 2017. 24f. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação em Física) - Instituto de Física, Universidade Federal Fluminense, 2017.
Abstract: Esta monografia tem o objetivo de descrever o desenvolvimento do aparato para aquecimento de substrato, objetivando a deposição de grafeno com poucas camadas. A aplicação de grafeno em dispositivos tem atraído a atenção de diversas áreas de pesquisa devido às fascinantes propriedades deste material, como flexibilidade, resistência mecânica, alta condutividade, entre outras. O aquecimento a baixa temperatura do substrato visa eliminar a necessidade do processo de transferência para outros substratos. Foi descrito também a técnica de caracterização utilizada de Espectroscopia Raman. Os resultados indicaram que à pressão constante, os parâmetros temperatura e tempo de crescimento foram fundamentais para a síntese. Utilizando a técnica Raman, foi possível analisar e identificar as bandas G e 2D nas amostras produzidas que apresentaram características de poucas camadas de carbono, alcançando o objetivo deste trabalho.
metadata.dc.description.abstractother: This monograph aims to describe the development of the apparatus for substrate heating, aiming the deposition of graphene with few layers. The application of graphene to devices has attracted the attention of several research areas due to the fascinating properties of this material, like flexibility, mechanical resistance, high conductivity, among others. Low temperature heating of the substrate aims to eliminate the need for the transfer process to other substrates. It was also described the characterization technique used of Raman Spectroscopy. The results indicated that at constant pressure, the parameters temperature and growth time were fundamental for the synthesis. Using the Raman technique, it was possible to analyze and identify the G and 2D bands in the samples produced that presented characteristics of few layers of carbon, reaching the objective of this work.
URI: https://app.uff.br/riuff/handle/1/7064
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