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dc.contributor.advisorFranceschini Filho, Dante Ferreira-
dc.contributor.authorLidizio, Leandro Reis-
dc.date.accessioned2018-07-19T19:39:57Z-
dc.date.available2018-07-19T19:39:57Z-
dc.date.issued2018-
dc.identifier.citationLidizio, Leandro Reis. Desenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVD. 2017. 24f. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação em Física) - Instituto de Física, Universidade Federal Fluminense, 2017.pt_BR
dc.identifier.urihttps://app.uff.br/riuff/handle/1/7064-
dc.description.abstractEsta monografia tem o objetivo de descrever o desenvolvimento do aparato para aquecimento de substrato, objetivando a deposição de grafeno com poucas camadas. A aplicação de grafeno em dispositivos tem atraído a atenção de diversas áreas de pesquisa devido às fascinantes propriedades deste material, como flexibilidade, resistência mecânica, alta condutividade, entre outras. O aquecimento a baixa temperatura do substrato visa eliminar a necessidade do processo de transferência para outros substratos. Foi descrito também a técnica de caracterização utilizada de Espectroscopia Raman. Os resultados indicaram que à pressão constante, os parâmetros temperatura e tempo de crescimento foram fundamentais para a síntese. Utilizando a técnica Raman, foi possível analisar e identificar as bandas G e 2D nas amostras produzidas que apresentaram características de poucas camadas de carbono, alcançando o objetivo deste trabalho.pt_BR
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dc.language.isopt_BRpt_BR
dc.publisherUniversidade Federal Fluminensept_BR
dc.rightsOpen Accesspt_BR
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/*
dc.titleDesenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVDpt_BR
dc.typemonografia de conclusão de cursopt_BR
dc.subject.keywordGrafenopt_BR
dc.subject.keywordBaixa temperaturapt_BR
dc.subject.keywordPECVDpt_BR
dc.subject.keywordRamanpt_BR
dc.subject.keywordAquecimentopt_BR
dc.contributor.membersFranceschini Filho, Dante Ferreira-
dc.contributor.membersPerez, Geronimo-
dc.contributor.membersXing, Yutao-
dc.degree.levelgraduaçãopt_BR
dc.creator.affilliationUniversidade Federal Fluminense. Instituto de Física. Departamento de Física. Niterói, RJpt_BR
dc.subject.descriptorGrafenopt_BR
dc.subject.descriptorBaixa temperaturapt_BR
dc.subject.descriptorPECVDpt_BR
dc.subject.descriptorAquecimentopt_BR
dc.subject.descriptorProdução intelectualpt_BR
dc.subject.keywordotherGraphenept_BR
dc.subject.keywordotherPECVDpt_BR
dc.subject.keywordotherTemperaturept_BR
dc.subject.keywordotherRamanpt_BR
dc.subject.keywordotherHeatingpt_BR
dc.description.abstractotherThis monograph aims to describe the development of the apparatus for substrate heating, aiming the deposition of graphene with few layers. The application of graphene to devices has attracted the attention of several research areas due to the fascinating properties of this material, like flexibility, mechanical resistance, high conductivity, among others. Low temperature heating of the substrate aims to eliminate the need for the transfer process to other substrates. It was also described the characterization technique used of Raman Spectroscopy. The results indicated that at constant pressure, the parameters temperature and growth time were fundamental for the synthesis. Using the Raman technique, it was possible to analyze and identify the G and 2D bands in the samples produced that presented characteristics of few layers of carbon, reaching the objective of this work.pt_BR
dc.identifier.vinculationAluno de graduaçãopt_BR
dc.degree.grantorUniversidade Federal Fluminensept_BR
dc.degree.departmentInstituto de Físicapt_BR
dc.degree.date2018-
dc.degree.localNiterói, RJpt_BR
dc.degree.cursoCurso de Físicapt_BR
dc.publisher.departmentNiteróipt_BR
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